真空裝置有兩種密封條件。一種是密封件將裝有液體介質(zhì)的容器與外部真空空間隔開。在這種情況下，密封件的主要功能是防止液體介質(zhì)泄漏到真空空間中。在另一種情況下，密封件將真空內(nèi)腔與外腔分開，其作用是保持所需的真空度。這種情況比較復雜，因為即使周圍的氣體介質(zhì)稍微漏進真空室，其真空度也會降低。如果腐蝕性氣體泄漏，真空設(shè)備可能會損壞。在許多情況下，真空度和真空空間的清潔度對真空條件下各種工藝過程的質(zhì)量有決定性的影響。真空設(shè)備中使用的恩平機械密封的結(jié)構(gòu)沒有什么特別之處。對于上述情況，通常采用氣密性好的金屬波紋管式單端恩平機械密封。第二種情況，應采用雙端恩平機械密封。如果使用單端密封，必然會出現(xiàn)密封端面無法潤滑的問題。

　　恩平機械密封沖洗水壺主要有兩種方式：內(nèi)部沖洗和外部沖洗。以下是用恩平機械密封沖洗水壺的共享方式：

　　一、內(nèi)部沖洗

　　1、是沖水

　　(1)特點：主機的密封介質(zhì)通過管道從泵的出口端引入密封腔。

　　(2)應用：對于清洗液，p1略大于P入口。當溫度高或有雜質(zhì)時，可在管道上設(shè)置冷卻器和過濾器。

　　2.反流

　　(1)特點：主機的密封介質(zhì)從泵的出口端引入密封腔，沖洗后通過管道流回泵入口。

　　(2)用途：用于清洗流體，P進入

　　3.全沖洗

　　(1)特點：利用主機的密封介質(zhì)，通過管道從泵的出口端引入密封腔，沖洗后通過管道流回泵入口。

　　(2)應用：冷卻效果好于前兩者，用于清洗流體，p1接近P入P出。

　　二、外部沖洗

　　特點：將外部系統(tǒng)中與密封介質(zhì)相容的清洗液引入密封腔體進行沖洗。

　　用途：外部沖洗液的壓力應比密封介質(zhì)的壓力高0.05-0.1兆帕，適用于介質(zhì)為高溫或固體顆粒的場合。沖洗液的流量應保證帶走熱量，滿足沖洗需要，使密封不受侵蝕。因此，需要控制密封腔的壓力和沖洗的流量，清洗沖洗液的流量一般應小于5m/s；含顆粒的漿液應小于3m/s，為達到上述流量值，沖洗液與密封室壓力之差應為